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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2009Structural and photoluminescence studies of erbium implanted nanocrystalline silicon thin filmsCerqueira, M. F.; Alpuim, P.; Filonovich, Sergej; Alves, E.; Rolo, Anabela G.; Andrês, G.; Soares, J.; Kozanecki, A.ArtigoAcesso aberto
2008Tunneling of Dirac electrons through spatial regions of finite massGomes, J. Viana; Peres, N. M. R.ArtigoAcesso aberto
Mai-2000Low substrate temperature deposition of amorphous and microcrystalline silicon films on plastic substrates by hot-wire chemical vapor depositionAlpuim, P.; Chu, V.; Conde, J. P.ArtigoAcesso aberto
Abr-2009Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100ºC and 250ºCAlpuim, P.; Gonçalves, L. M.; Marins, Emílio Sérgio; Viseu, T. M. R.; Ferdov, S.; Bourée, J. E.ArtigoAcesso aberto
2003Finite-energy Landau liquid theory for the one-dimensional Hubbard model: Pseudoparticle energy bands and degree of localization/delocalizationCarmelo, José Manuel Pereira; Sacramento, P. D.ArtigoAcesso aberto
Jun-2005Thermoelectric microstructures of Bi2Te3/Sb2Te3 for a self-calibrated micropyrometerGonçalves, L. M.; Alpuim, P.; Couto, Carlos; Rowe, D. M.; Correia, J. H.Artigo em ata de conferênciaAcesso aberto
Jul-2003Electronic and structural properties of doped amorphous and nanocrystalline silicon deposited at low substrate temperatures by radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor depositionAlpuim, P.; Chu, V.; Conde, J. P.ArtigoAcesso aberto
2006Study of the oxygen role in the photoluminescence of erbium doped nanocrystalline silicon embedded in a silicon amorphous matrixCerqueira, M. F.; Losurdo, M.; Monteiro, T.; Stepikhova, M.; Soares, M. J.; Peres, M.; Alves, E.; Conde, O.ArtigoAcesso aberto
7-Jan-2002Probing the exciton density of states in semiconductor nanocrystals using integrated photoluminiscence spectroscopyFilonovich, Sergej; Rakovich, Yury P.; Vasilevskiy, Mikhail; Artemyev, Mikhail V.; Talapin, Dmitrii V.; Rogach, Andrey L.; Rolo, Anabela G.; Gomes, M. J. M.ArtigoAcesso restrito UMinho
Set-2001Doping of amorphous and microcrystalline silicon films deposited at low substrate temperatures by hot-wire chemical vapor depositionAlpuim, P.; Chu, V.; Conde, J. P.ArtigoAcesso aberto
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